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W2-MKII沉淀研究儀器


采用臺式底座和背景燈光,使觀察更方便。該設(shè)備用于研究沉淀的基本物理過程,包括地帶形成和受阻
沉淀。

  • 產(chǎn)品特點
  • 產(chǎn)品描述
  • 技術(shù)參數(shù)
  • 文檔下載

    演示性能:

    · 起始濃度對沉降速度的影響

    · 從單一的批處理測試過程中構(gòu)建沉降速度曲線

    · 起始懸浮物高度對沉降速度的影響

    · 顆粒尺寸分布的影響

    · 絮凝化添加劑的使用

    描述:

    沉降過程被廣泛使用在水和廢水凈化過程中。依靠懸浮物的濃度和粒子特征,粒子以不同的方式從懸浮物中沉降。最簡單的沉降類型是一種稀釋的粒子懸浮物沉降,該粒子很少或沒有趨勢絮凝化。在這些情況下,凈化速度的預測和擴展到工廠規(guī)模的設(shè)計是直接相關(guān)的。

    對較高濃度的液體而言,內(nèi)部粒子效果很重要并且可能凝塊,發(fā)生不同的沉降速度狀況,如圖1中的各種“區(qū)域”。來自于這樣系統(tǒng)的批處理測試的信息形成了最佳化設(shè)計研究和工業(yè)沉降缸操作的重要部分。

    Armfield沉降研究裝置可以對任一選擇好的沉淀/水系統(tǒng)的這些不同特征進行演示。

    五個同樣大小的玻璃柱垂直安裝在背板上組成測量規(guī)模。每個柱子都可以從背板上移走進行清洗,填充和固體顆粒的混合。包含不同數(shù)量懸浮物的溶液放入不同的柱子內(nèi),以時間為標準,測量各種固溶體/液體交界面的高度改變情況來觀察不同的沉降速度。(如圖2)

    作為一個完整的設(shè)備該單元包含如下必備附件:

    定時器,2L容量的3個燒杯,特定的重力瓶。

    一個精確的天平用于對固溶體的測量(不提供)。

    整個設(shè)備是臺式的并提供背光。


    訂購說明:

    5個有刻度的,1m長×51mm圓孔直徑的圓柱垂直安裝在一個背板上。

    圓柱體通過背光被照明并且可拆解進行清洗。

    提供的附件包括: 定時器,2L容量的3個燒杯,特定的重力瓶。

    驗證性能:

    1. 起始濃度對沉降速度的影響。

    2. 從單一的批處理測試過程中構(gòu)建沉降速度曲線。

    3. 起始懸浮物高度對沉降速度的影響。

    4. 顆粒尺寸分布的影響。

    5. 絮凝化添加劑的使用。

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